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氨逃逸监测 — SCR 脱硝精准管控

NH₃ slip — OPSIS TDLAS 激光技术实现 0.5 mg/m³ 检出限的氨逃逸在线监测,优化喷氨量,降低运行成本,防止下游设备腐蚀堵塞

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OPSIS LD500 氨逃逸监测现场安装
OPSIS LD500 氨逃逸监测系统

什么是氨逃逸?

氨逃逸(NH₃ slip)指 SCR/SNCR 脱硝过程中喷入的过量氨气未与 NOx 反应而随烟气排出。氨逃逸不仅浪费运行成本,还会与 SO₃ 反应生成硫酸氢铵(NH₄HSO₄),堵塞空预器和催化剂,严重影响设备安全运行。《燃煤电厂超低排放烟气治理工程技术规范》(HJ 2053-2018)要求 SCR 脱硝氨逃逸浓度不高于 2.5 mg/m³。

为什么选择 OPSIS TDLAS?

🔬

低检出限 0.5 mg/m³

TDLAS 窄线宽激光扫描 NH₃ 特征吸收线,单线光谱技术避免交叉干扰,满足超低排放要求

🛡

高选择性抗干扰

单吸收线扫描,不受 SO₂/H₂O/CO₂ 交叉干扰,测量结果真实可靠

秒级快速响应

响应时间最快 1 秒,可直接用于 SCR 喷氨量闭环控制,降低氨耗

典型应用场景

⚡ 燃煤电厂

SCR 脱硝出口氨逃逸监测,优化喷氨量

🔥 垃圾焚烧

SNCR 工艺氨逃逸及排放合规监测

🏗 水泥窑

高尘 SCR 出口氨逃逸连续监测

🌾 肥料/化工

工艺尾气 NH₃ 排放监测与过程控制

技术指标

测量原理TDLAS 可调谐半导体激光吸收光谱
可测气体NH₃(可扩展至 HCl/HF/CO/CO₂/CH₄/O₂ 等)
测量范围0–20 mg/m³(可调)
检出限0.5 mg/m³(1 m 光程、30 s 测量时间)
响应时间最快 1 秒
安装方式烟道对穿式(cross-stack)/ 反射式
认证TÜV · MCERTS

注:检出限与量程数据引自 OPSIS 官方应用资料(1 m 光程、30 s 测量时间)。

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